Fotolitografía – Alineadora de máscaras

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Alineadoras de máscaras
Midas System diseña y fabrica alineadores de máscara manuales y semiautomáticos para una variedad de aplicaciones en microelectrónica, semiconductores y optoelectrónica. La producción de MEMS, LEDs, chips y circuitos integrados requiere alta precisión en el alineamiento de la máscara para las obleas en sistemas de nanolitografía por exposición UV. Las universidades y centros de investigación que requieren bajos niveles de producción disponen ahora de una solución de precisión y fiabilidad a un precio razonable para sus aplicaciones de nanolitografía. Puede también usarse en aplicaciones de producción asistidas por un operador.
altImagen SEM
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Características de cada alineador de máscaras.

  • Alta resolución de impresión de 1µm.
  • Versatilidad en manejar substratos hasta 6″
  • Chucks especiales para componentes bajo petición
  • Alineamiento de alta precisión y manipulador con microscopio
  • Configuración óptica de alta intensidad para diferentes sistemas de exposición UV
  • Sistema de rodamientos de aire para compensación de cuña
  • Fácil acceso a todos los componentes
  • Ergonómico
  • Económico / Alta calidad
Alineadores de máscaras
MDA-400M
MDA-60MS
Tipo Manual Semi-automática (alineamiento manual, exposición automática)
Dimensiones de sustrato hasta 6″ hasta 6″ (opción 8″)
Dimensiones del soporte de máscara hasta 6″ x 6″ hasta 7″ x 7″
Potencia de la lámpara UV 350 W 1kW
Resolución 0.8 µm 1 µm
Precisión de alineamiento 1 µm 0,5 µm
Uniformidad de la lámpara < ±5% < ±5%
Dimensiones del haz uniforme 6,25″ x 6,25″ 9,25″ x 9,25″
Intensidad del haz (365 nm) 20 ~ 25 mW/cm2 25 mW/cm2
Tiempo de exposición 0,1 a 999,9 segundos
0,1 a 999,9 segundos
Modo de proceso Leve, Intenso, Vacío y Proximidad Leve, Intenso, Vacío y Proximidad
Dimensiones 1050 x 1088 x 1561 mm (mesa antivibratoria incluida) 1400 x 1100 x 1600 mm (mesa antivibratoria incluida)
Certificado CE
SI
Disponible en Abril 2012
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